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BAO Mask Avenger(AE高級遮罩插件)v2.7.1官方版

BAO Mask Avenger(AE高級遮罩插件)v2.7.1官方版

  • 軟件大小:3.23 MB
  • 更新日期:2019-08-08
  • 軟件語言:簡體中文
  • 軟件類别:國産軟件
  • 軟件授權:免費版
  • 評分等級:
  • 插件情況:無插件請放心使用
  • 軟件官網:http://dnsu6dw.top
  • 适用平台:Win All
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BAO Mask Avenger是一款非常實用的AE高級遮罩插件,有了這款腳本,我們就可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點,同時在三維空間制作出路徑動畫。

BAO Mask Avenger

【功能特色】

拉姆預覽保護。以前版本的最大問題是Ram預覽無效

通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統避免了這一點。

3D面具。 Mask Avenger現在可以在3D中控制蒙版,而無需使用空圖層和表達式。

然後更快地計算掩模,并簡化表達式寫入。

背景烘焙。當需要修改蒙版時,蒙版複仇者會立即對其進行轉換

當前時間,并在後台烘烤工作區域的其餘部分。這意味着您可以繼續工作

而面具複仇者正在忙着烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。

更好地塑造層兼容性。與“動态”模式相關的錯誤随着新烘焙而消失系統。

工作區和圖層的持續時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當然,

烘焙100,000個關鍵幀需要超過10個,但新的烘焙系統允許您繼續工作

而它正在烘烤。

不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現在使用AE自己的掩蔽功能,運行速度更快。

面具預覽。 Mask avenger 2.0有一個預覽系統,可以動态地顯示它們之前的變化

适用于面具。這可以避免在表達式,其他圖層或相機修改蒙版時出現延遲。

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